3D-Formerfassung von Wafern

Zur Erfassung der Ebenheit bzw. Planarität von 150 mm Wafern werden reflectCONTROL Deflektometrie-Systeme eingesetzt. Diese erfassen die Ebenheit mit nur einer Aufnahme. Dazu projizieren die Sensoren auf den Wafer ein Streifenmuster, das von den integrierten Kameras aufgenommen wird. Geometrische Abweichungen auf dem Wafer verursachen eine Verzerrung des Streifenmusters, das softwareseitig ausgewertet wird. Der Sensor liefert eine hochgenaue 3D-Darstellung der spiegelnden Oberfläche, mit der die Topologie mikrometergenau bestimmt werden kann.