Direkt zur Hauptnavigation springen Direkt zum Inhalt springen Zur Unternavigation springen

Halbleiter & Wafer

Messaufgaben in der Halbleiterindustrie erfordern höchste Genauigkeit und Reproduzierbarkeit. Micro-Epsilon bietet für zahlreiche Anwendungen die richtige Lösung - von der präzisen Maschinenpositionierung über die Waferinspektion bis zur Topografiemessung. 

3D-Formerfassung von Wafern

Zur Erfassung der Ebenheit bzw. Planarität von 150 mm Wafern werden reflectCONTROL Deflektometrie-Systeme eingesetzt. Diese erfassen die Ebenheit mit nur einer Aufnahme. Dazu projizieren die Sensoren auf den Wafer ein Streifenmuster, das von den…

Mehr erfahren
3D-Formerfassung von Wafern

Hochpräzise Dickenmessung von Silizium-Wafern

Für die exakte Dickenmessung von Wafern werden kapazitive Wegsensoren eingesetzt. Zwei gegenüberliegende Sensoren erfassen die Dicke und bestimmen darüber hinaus weitere Parameter wie die Durchbiegung. Dabei kann die Lage des Wafers im Messspalt…

Mehr erfahren
Hochpräzise Dickenmessung von Silizium-Wafern

Dimensionelle Prüfung von Silizium-Ingots

Um die Geometrie von Silizium-Ingots zu prüfen, werden Laser-Profilscanner von Micro-Epsilon eingesetzt. Diese erfassen die komplette Geometrie der Siliziumstäbe. Dadurch können geometrische Abweichungen des Siliziumnblocks vor dem Vereinzeln…

Mehr erfahren
Dimensionelle Prüfung von Silizium-Ingots

Durchbiegung von Wafern

Konfokal-chromatische Sensoren scannen die Oberfläche von Wafern und erfassen so die Durchbiegung und Verzug von Wafern. Mit einer Messrate von 70 kHz ermöglichen die confocalDT Controller hochdynamische Messungen. Dadurch können die Wafer in…

Mehr erfahren
Durchbiegung von Wafern

Erkennen und Messen von Sägeriefen

Zur automatischen Erkennung und Vermessung von Sägeriefen werden konfokal-chromatische Sensoren von Micro-Epsilon eingesetzt. Die schnelle Oberflächenkompensation im Controller regelt die Belichtungszyklen, um eine maximale Signalstabilität bei…

Mehr erfahren
Erkennen und Messen von Sägeriefen

Erkennung und Vermessung von Bumps auf Siliziumwafern

Konfokal-chromatische Wegsensoren von Micro-Epsilon werden zur Prüfung von Bumps eingesetzt. Die Sensoren erzeugen einen kleinen Lichtpunkt auf dem Wafer und können dank der hohen Auflösung kleinste Teile und Strukturen zuverlässig erfassen.…

Mehr erfahren
Erkennung und Vermessung von Bumps auf Siliziumwafern

Lagebestimmung beim Waferhandling

Beim Handling von Wafern ist die exakte und reproduzierbare Positionierung entscheidend. Beim Zuführen von Wafern prüfen zwei optoCONTROL Laser-Mikrometer den Durchmesser und ermitteln so die horizontale Lage. Dank der hohen Messrate und der…

Mehr erfahren
Lagebestimmung beim Waferhandling

Masken-Positionierung in der Lithografie

Im Lithografieprozess ist eine hochauflösende und langzeitstabile Messung von Maschinenbewegungen erforderlich, um maximale Präzision zu erzielen. Dank der hohen Auflösung ermöglichen kapazitive Sensoren von Micro-Epsilon die nanometergenaue…

Mehr erfahren
 Im Lithografieprozess ist eine hochauflösende und langzeitstabile Messung von Maschinenbewegungen erforderlich, um maximale Präzision zu erzielen. Dank der hohen Auflösung ermöglichen kapazitive Sensoren von Micro-Epsilon die nanometergenaue Positionierung der Masken. Vakuumtaugliche Ausführungen der Sensoren und Sensorkabel erlauben den Einsatz bis ins UHV. Zum Produkt capaNCDT 6200 Applikationen Branchen Additive Fertigung

Weißlicht-Interferometer zur Masken-Positionierung in der Lithografie

Im Lithografieprozess ist eine hochauflösende und langzeitstabile Messung von Maschinenbewegungen erforderlich, um maximale Präzision zu erzielen. Dank spezieller Auswertealgorithmen und der aktiven Temperaturkompensation ermöglicht das…

Mehr erfahren
Weißlicht-Interferometer zur Masken-Positionierung in der Lithografie

Messung von transparenten Schichten und Kleberaupen

Konfokal-chromatische Sensoren werden zur einseitigen Dickenmessung von Beschichtungen eingesetzt. Das Messprinzip ermöglicht die Auswertung mehrerer Signal-Peaks, wodurch die Dicke von transparenten Materialien bestimmt werden kann. Dank der…

Mehr erfahren
Messung von transparenten Schichten & Kleberaupen

Präzise Notch-Erkennung am Glaswafer

Die Notch-Erkennung am Glaswafer ist ein entscheidender Produktionsschritt in der Halbleiterfertigung. Sie muss absolut präzise erfolgen, um höchste Qualität und Genauigkeit der hergestellten Halbleiterchips zu gewährleisten. Für diese hochgenaue Positionserfassung werden Lichtleitersensoren optoCONTROL CLS1000 eingesetzt.

Mehr erfahren
Präzise Notch-Erkennung am Glaswafer

Positionierung der Waferstage mit kapazitiven Sensoren

Die kapazitiven Wegsensoren werden zur Feinpositionierung in der Waferstage eingesetzt. Die Sensoren messen an verschiedenen Stellen die Position der Stage, was insbesondere zur Feinausrichtung genutzt werden kann. Dank triaxialem Aufbau sind die…

Mehr erfahren
Positionierung der Waferstage mit kapazitiven Sensoren

Positionierung des Linsensystems in Lithografiemaschinen

Berührungslose induktive Wegsensoren (Wirbelstrom) messen die Position von Linsenelementen, um größtmögliche Abbildungsgenauigkeit herzustellen. Je nach Systemaufbau werden die Wegsensoren zur Erfassung von bis zu 6 Freiheitsgraden eingesetzt.…

Mehr erfahren
Positionierung des Linsensystems in Lithografiemaschinen

Nanometergenaue Positionierung in Lithografiemaschinen

Zur Belichtung einzelner Bauelemente auf dem Wafer werden diese über Waferstages an die jeweilige Position bewegt. Um die nanometergenaue Positionierung zu ermöglichen, messen kapazitive Wegsensoren sowie Wirbelstromsensoren die Position des…

Mehr erfahren
Nanometergenaue Positionierung in Lithografiemaschinen

Positionierung der Waferstage

Berührungslose Sensoren von Micro-Epsilon werden zur Positionsüberwachung der Waferstage eingesetzt. Dort messen sie die hochdynamischen XYZ-Bewegungen der Stage mit extrem hohen Beschleunigungen. Die kapazitiven und induktiven (Wirbelstrom)…

Mehr erfahren
Positionierung der Waferstage

Positionierung der Waferstage mit Weißlichtinterferometern

Die Weißlicht-Interferometer der Serie interferoMETER IMS5600 von Micro-Epsilon werden zur Positionsüberwachung der Waferstage eingesetzt. Dort messen sie die XYZ-Bewegungen der Stage mit extrem hohen Beschleunigungen. Die hochpräzisen optischen…

Mehr erfahren
Positionierung der Waferstage mit Weißlichtinterferometern

Prüfung der Verkippung von Linsenträgern

Kapazitive Wegsensoren messen die Verkippung von Linsenträgern mit Nanometergenauigkeit. Dank der hochpräzisen Messung wird eine reproduzierbare Projektion sichergestellt. Mehrere Sensoren messen dabei auf den metallischen Träger. Dank der…

Mehr erfahren
Prüfung der Verkippung von Linsenträgern

Überwachung der Ausrichtung von Linsen mit konfokal-chromatischen Sensoren

Konfokal-chromatische Sensoren werden eingesetzt, um die Ausrichtung der Optik zu messen. Mehrere Sensoren messen dabei direkt auf die Optik, um die Verkippung nanometergenau zu erfassen. Anders als elektromagnetische Sensoren sind…

Mehr erfahren
Überwachung der Ausrichtung von Linsen mit konfokal-chromatischen Sensoren

Prüfung der Orientierungskerben auf Silizium-Ingots

Ingots werden oftmals mit Orientierungskerben versehen, die für die Ausrichtung der Ingots erforderlich sind. Um das Profil der Kerben auf Maßhaltigkeit zu prüfen, werden Blue-Laserscanner von Micro-Epsilon eingesetzt. Diese erfassen das…

Mehr erfahren
Prüfung der Orientierungskerben auf Silizium-Ingots

Überprüfung auf Risse und Abbrüche

Konfokal-chromatische Sensoren von Micro-Epsilon werden eingesetzt, um Risse und andere Fehlstellen auf dem Wafer zu erkennen. Dank der schnellen Oberflächenkompensation im Controller können Oberflächen mit unterschiedlichen…

Mehr erfahren
Überprüfung auf Risse und Abbrüche

Überwachung der axialen Bewegung von Innenlochsägen

Innenlochsägen werden zum Trennen von Siliziumingots eingesetzt. Um eine zuverlässige Trennung des Ingots zu erreichen, wird das Sägeblatt bzw. die Halterung mit Wirbelstromsensoren überwacht. Vier Sensoren messen berührungslos den Abstand auf…

Mehr erfahren
Überwachung der axialen Bewegung von Innenlochsägen

Überwachung der Durchbiegung von Drahtsägen

Drahtsägen werden eingesetzt, um Ingots in einem Schritt zu schneiden. Da der Draht hohem Verschleiß unterliegt, wird das Drahtbett an mehreren Stellen mit berührungslosen Wirbelstromsensoren überwacht. Diese erfassen zum einen die Drahthöhe auf…

Mehr erfahren
Überwachung der Durchbiegung von Drahtsägen

Überwachung von Optik-Systemen mit Wellenfrontsensoren

Shack-Hartmann Wellenfrontsensoren von Optocraft messen den Justage-Zustand und die Abbildungsqualität des gesamten optischen Systems. Das robuste Messprinzip erlaubt die Maschinen-Integration und automatisierte Messabläufe, sowie eine…

Mehr erfahren
Überwachung von Optik-Systemen mit Wellenfrontsensoren

Verkippungsmessung von Wafern

Die exakte Lage des Wafers spielt eine wichtige Rolle beim Waferhandling. Beim Zuführen von Wafern werden Weißlicht-Interferometer eingesetzt, um die horizontale Verkippung von Wafern zu messen. Dabei messen zwei Interferometer auf den Wafer. Die…

Mehr erfahren
Verkippungsmessung von Wafern

Wafer-Dickenmessung / TTV

Konfokal-chromatische Sensoren messen von beiden Seiten die Dickenabweichung bzw. die Waferdicke. Über das Dickenprofil des gesamten Wafers kann auch die Verwölbung und Verbiegung des Wafers ermittelt werden. Dank der hohen Messrate kann die…

Mehr erfahren
Wafer-Dickenmessung / TTV